光氧氧化是指在一定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的分离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也就是光氧剂本身不发生变化。

     光氧催化氧化设备利用UV紫外线技术(波段184.9nm-253.7nm)，产生臭氧，游离活性氧离子。

     通过高能紫外线光破坏降解分子键及协同分解氧化反应去除有机污染物。

 

     当化学物质通过吸收能量(如热能、光子能量等)，可以使自身的化学性质变得更加活跃甚至被裂解。

     当吸收的能量大于化学键键能，即可使得化学键断裂，形成游离的带有能量的原子或基团。

     当波段内的真空紫外线(波长范围内184.9nm-253.7nm)，促使有机废气物质通过吸收该波段的光子，而该波段的光子能量大于绝大多数的化学键键能，使得有机物质得以裂解;

      再通过裂解产生的臭氧将其氧化成简单、无害、稳定的物质，如H2O和CO2等。

 

     活性炭吸附技术

     废气经过吸附塔内的初效过滤器除去固体颗粒物后，进入塔体，经过活性炭层吸附后，除去气体中的有机废气分子，达到符合排放标准的净化气体，经风机排到室外。
 

    UV光氧活性炭一体机结合了UV光氧氧化技术和活性炭吸附，相比分开的两种设备，净化效率更高，成本降低。
 

    UV光氧活性炭吸附一体化设备的特点：

    1.占地面积小，体积小，自重轻。

    2.结构简单，便于维护。

    3.无需人工看管，可连续24小时运行。

    4.无需要添加任何化学物质，开机即可运行废气。

    5.可以同时处理多种类型的废气。

 

    UV光氧活性炭一体机适用范围

    化工厂、石油厂、制药厂、油墨厂、印染厂、印刷厂等有机废气和恶臭气体的企业。